黄太子成人App_黄太子APP污_黄太子成人app免费观看_黄太子视频APP色版免费下载

卓力達

以品質立足行業(yè),以服務誠贏天下

我國光掩膜版行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

作者: 編輯: 來源: 發(fā)布日期: 2019.04.17
信息摘要:
光掩膜一般也稱光罩,是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形,并通過曝光將圖形轉印到產(chǎn)品基板上。光…

掩膜概述

光掩膜一般也稱光罩,是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形,并通過曝光將圖形轉印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成:基板和不透光材料。作為半導體、液晶顯示器制造過程中轉移電路圖形“底片”的高精密工具,光掩膜是半導體制程中的一環(huán)。

光掩膜的應用

光掩膜主要應用于集成電路、平板顯示(包括 LCD、LED、OLED)、印刷電路板等領域,應用較為廣泛。


光掩膜基板在光刻工藝中的應用示例


光掩膜行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈


光掩膜上游主要包括圖形設計、光掩膜設備及材料行業(yè),下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè),應用于主流消費電子 (手機、平板、可穿戴設備)、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端產(chǎn)品。

目前全球范圍內光刻掩膜版主要以生產(chǎn)商為主。由于下游應用領域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低,且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術壁壘,所以光刻掩膜版都是由生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。

光掩膜產(chǎn)業(yè)鏈


光掩膜版行業(yè)競爭格局

半導體光掩模市場集中度高,Photronics、大日本印刷株式會社DNP和日本凸版印刷株式會社Toppan三家占據(jù)80%以上的市場份額。

我國的光掩膜版行業(yè)僅能夠滿足國內中低檔產(chǎn)品市場的需求,高光掩膜版則由國外公司直接提供。目前,國內的光掩膜版企業(yè)主要集中在上海、北京、深圳及江浙地區(qū),它們的市場側點各不相同。

2018年我國光掩膜版市場競爭結構分析


光掩膜版行業(yè)市場概況

1. 市場供需情況

2011年我國光掩膜版生產(chǎn)規(guī)模為0.87萬平方米,2017年生產(chǎn)規(guī)模增長到1.69萬平方米,復合增長率達到14.20%。


2011-2016年我國光掩膜版生產(chǎn)規(guī)模分析

從我國光掩膜版的需求量來看,行業(yè)需求穩(wěn)定增長,2016年需求量達到了7.98萬平方米。


2011-2016年我國光掩膜版需求量

2016年我國光掩膜版國內總產(chǎn)量為1.69萬平方米,年度消費量為7.98萬平方米,國內光掩膜版凈進口量達到6.29萬平方米。

2011-2016年我國光掩膜版供需統(tǒng)計圖

2. 市場規(guī)模

2018年我國光掩膜版需求市場規(guī)模為56.7億元,2016年國內需求市場規(guī)模增長到59.5億元,規(guī)模較上年同期增長4.9%。

假設光掩膜基板材料成本占比為30% 并考慮整體市場規(guī)模的增長,則2016年我國光掩膜基板的市場規(guī)模超過20億元。

2011-2016年我國光掩膜市場規(guī)模及增速

隨著手機、電腦、液晶電視等市場需求的增長,以及穿戴式產(chǎn)品、智能家居等新型市場的興起,全球LCD面板需求也快速增長。同時,在國家政策的扶持下,我國TFT-LCD行業(yè)快速發(fā)展。

根據(jù)半導體協(xié)會EMI統(tǒng)計,2017年全球光掩膜市場以 37.5億 美元創(chuàng)下歷史新高,預計2019年將超越 40億 美元大關。而全球的光掩膜市場是臺灣地區(qū),其次是韓國,而大陸在全球光掩模市場的份額現(xiàn)約個位數(shù),市場預期在2020年有機會挑戰(zhàn)20%份額。

在合成石英玻璃材料制備方面,國內企業(yè)已具備生產(chǎn)G8代大尺寸、高精度 TFT-LCD光掩膜基板技術能力。在我國 TFT-LCD 全球市場份額持續(xù)增長,國產(chǎn)合成石英玻璃材料競爭優(yōu)勢進一步提升的情況下,光掩膜基板業(yè)務有望快速成長,成為企業(yè)新的業(yè)績增長點。

3. 發(fā)展趨勢

光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導體行業(yè)和電路板行業(yè)的影響,與下游終端行業(yè)的發(fā)展趨勢密切相關。

在光刻掩膜版領域,國內廠商與國外技術存在一定差距。目前,光罩的核心技術主要掌握在日本的HOYA、SKE,韓國的LG Micron、PKL以及我國臺灣地區(qū)的AIPC等企業(yè)手中,由于其對于光掩膜版的關鍵技術與設備進行了較為嚴格的封鎖,所以導致國內廠商在技術上與國外廠商相比存在一定的差距。

未來幾年我國掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細化、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展,因此在需求持續(xù)增加的情況下,影響光掩膜行業(yè)發(fā)展的因素還是技術的研究情況。

聯(lián)系我們

  • 座機: 0513-81601666
  • 電話: 189-3869-3452
  • 傳真:0513-81601333
  • 郵箱: yw5@zldsmt.com
  • 地址:江蘇省南通市通州區(qū)南通高新技術產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)金川路268號