信息摘要：
低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越的蝕刻選擇比。但相對于干式蝕刻，除了無法定義較細(xì)的線寬外
1、化學(xué)蝕刻的優(yōu)點(diǎn)
低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越的蝕刻選擇比。但相對于干式蝕刻，除了無法定義較細(xì)的線寬外，化學(xué)蝕刻仍有以下的缺點(diǎn)：
(1) 需花費(fèi)較高成本的反應(yīng)溶液及去離子水；
(2) 化學(xué)藥品處理時人員所遭遇的問題；
(3) 光阻附著性問題；
(4) 氣泡形成及化學(xué)蝕刻液無法與晶圓表面接觸所造成的不均勻的蝕刻；
(5) 廢氣及潛在的爆炸性。
濕式蝕刻過程可分為三個步驟：
(1) 化學(xué)蝕刻液擴(kuò)散待蝕刻材料之表面；
(2) 蝕刻液與待蝕刻材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)；
(3) 反應(yīng)后之產(chǎn)物從蝕刻材料之表面擴(kuò)散到溶液中，并隨溶液排出(3)。
三個步驟中進(jìn)行慢者為速率控制步驟，也就是說該步驟的反應(yīng)速率即為整個反應(yīng)之速率。
大部份的蝕刻過程包含了一個或多個化學(xué)反應(yīng)步驟，各種形態(tài)的反應(yīng)都有可能發(fā)生，但常遇到的反應(yīng)是將待蝕刻層表面先予以氧化，再將此氧化層溶解，并隨溶液排出，如此反復(fù)進(jìn)行以達(dá)到蝕刻的效果。如蝕刻硅、鋁時即是利用此種化學(xué)反應(yīng)方式。
2、化學(xué)蝕刻的速率
通?？山逵筛淖?nèi)芤簼舛燃皽囟扔枰钥刂?。溶液濃度可改變反?yīng)物質(zhì)到達(dá)及離開待蝕刻物表面的速率，一般而言，當(dāng)溶液濃度增加時，蝕刻速率將會提高。而提高溶液溫度可加速化學(xué)反應(yīng)速率，進(jìn)而加速蝕刻速率。
除了溶液的選用外，選擇適用的屏蔽物質(zhì)亦是十分重要的，它與待蝕刻材料表面有很好的附著性、并能承受蝕刻溶液的侵蝕且穩(wěn)定而不變質(zhì)。而光阻通常是一個很好的屏蔽材料，且由于其圖案轉(zhuǎn)印步驟簡單，因此常被使用。但使用光阻作為屏蔽材料時也會發(fā)生邊緣剝離或龜裂的情形。邊緣剝離乃由于蝕刻溶液的侵蝕，造成光阻與基材間的黏著性變差所致。解決的方法則可使用黏著來增加光阻與基材間的黏著性，如Hexamethyl-disilazane (HMDS)。龜裂則是因為光阻與基材間的應(yīng)力差異太大，減緩龜裂的方法可利用較具彈性的屏蔽材質(zhì)來吸收兩者間的應(yīng)力差。
蝕刻化學(xué)反應(yīng)過程中所產(chǎn)生的氣泡常會造成蝕刻的不均勻性，氣泡留滯于基材上阻止了蝕刻溶液與待蝕刻物表面的接觸，將使得蝕刻速率變慢或停滯，直到氣泡離開基材表面。因此在這種情況下會在溶液中加入一些催化劑增進(jìn)蝕刻溶液與待蝕刻物表面的接觸，并在蝕刻過程中予于攪動以加速氣泡的脫離.
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