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卷對(duì)卷蝕刻的優(yōu)勢(shì)有哪些？ 頭條
卷對(duì)卷蝕刻工藝實(shí)現(xiàn)的是卷對(duì)卷設(shè)備提供的全自動(dòng)化生產(chǎn)，由于設(shè)備的精準(zhǔn)設(shè)定和卷對(duì)卷連續(xù)性，這種蝕刻模式下的產(chǎn)品質(zhì)量更具穩(wěn)定性，精確度更高。同時(shí)由于卷對(duì)卷蝕刻的全自動(dòng)化生產(chǎn)也大大提高了生產(chǎn)效率，降低了勞動(dòng)強(qiáng)度。
金屬化學(xué)蝕刻的發(fā)展簡(jiǎn)史

金屬化學(xué)蝕刻的發(fā)展簡(jiǎn)史

近幾十年來(lái)，化學(xué)蝕刻作為一種精密而科學(xué)的化學(xué)加工技術(shù)，在多種金屬材料上被大量用于蝕刻各種不同的圖文及外形加工。特別是航天和航空X業(yè)，幾乎隨處都可見(jiàn)到化學(xué)蝕刻加工技術(shù)的應(yīng)用。
我國(guó)光掩膜版行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

我國(guó)光掩膜版行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。
化學(xué)蝕刻的優(yōu)點(diǎn)和速率

化學(xué)蝕刻的優(yōu)點(diǎn)和速率

低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越的蝕刻選擇比。但相對(duì)于干式蝕刻，除了無(wú)法定義較細(xì)的線寬外
鋁合金蝕刻不均勻產(chǎn)生的原因是什么？如何排除？

鋁合金蝕刻不均勻產(chǎn)生的原因是什么？如何排除？

鋁合金酸性蝕刻不均勻產(chǎn)生的原因是什么？如何排除？
金屬標(biāo)牌的種類及其制作方法

金屬標(biāo)牌的種類及其制作方法

標(biāo)牌、銘牌在現(xiàn)代社會(huì)各個(gè)領(lǐng)域運(yùn)用越來(lái)越多，廣泛運(yùn)用與電子產(chǎn)品、家電、機(jī)械及民用產(chǎn)品等領(lǐng)域。它們的制作工藝一般有哪些呢？